Все науки. №4, 2022. Международный научный журнал - страница 9

Устройство ВЧ-источника состоит в следующем. В колбе из кварца или пирекса, поверх которой намотана катушка, а в верхней части введён анод, на который подаётся постоянное напряжение. На катушку подаётся переменное напряжение, после чего появляется ВЧ кольцевой разряд, ограничиваемый взаимно перпендикулярными линиями магнитного и электрического поля.

Далее концентрация плазмы в полости увеличивается, затем начинает действовать напряжение на вытягивающем электроде, что приводит к выводу плазмы через небольшую щель, далее идёт фокусирующий электрод и наконец ускоряющий электрон. Подаваемая частота составляет десятки МГЦ, а напряжение на вытягивающем электроде 3—5 кВ. Ранее указываемое давление ныне должно быть около 1 Па с расходом 1—2 см^>3/ч. Потребляемая мощность ВЧ не велика и равна 100—200 Вт, с током генерируемых ионов в сотни мкА.

Следующий вид источников СВЧ-источники действуют как следующая стадия ВЧ-источников. Изначально, в небольшую полость вводят газ – на первую ступень с давлением порядка 0,1 Па. Затем в этот газ направляется поток электронов из обычного термоэлектронного источника, но эти электроны введены в резонанс на их ларморовской частоте. То есть электроны введены в магнитное поле и совершают вращение по силе Лоренца, равной центробежной силе (1.3).

Где уместно введение следующих преобразований (1.4).

Откуда можно вычислить ларморовскую частоту (1.5).

Из этого следует, что можно определить ларморовскую частоту для определённого магнитного поля, тем самым увеличивая энергию частиц. Таким образом слабые электроны увеличивают свою энергию, что позволяет ионизировать больше газа на первой ступени, соответственно вводя завихрения. Далее следует вторая ступень, на которую поступает уже колодная плазма с энергией 1 кэВ, предварительно откачивая ненужные остатки газа в 2 ступени.

На первой ступени до этого частота была порядка 16 ГГц. При этом холодная плазма диффундирует в обдирочную ступень. Далее эта плазма поступает на вторую ступень, где частота уже меньше и достигает 8 ГГц, но плазма там приобретает большую энергию, то есть там уже горячая плазма с энергией порядка 10 кэВ с давлением порядка 10^>—5 Па плазмы. Эта плазма находиться в небольшой ловушке, где уменьшается концентрация магнитного поля, то есть создаётся своеобразная граница, которую ионы и иные заряженные частицы покинуть не могут. Соответственно, в системе имеется свой вакуумный насос, система откачки и вывод порционно самой плазмы в ускоритель, то есть экстрактор.